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  • 檢索結果：共3筆資料 檢索策略： "氧化鋅".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="離子束濺鍍法"


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    1
    退火條件對以離子束濺鍍法沈積氧化鋅薄膜之特性研究
    • 電子工程系 /96/ 碩士
    • 研究生： 蔡東逸   指導教授： 趙良君
    • 使用毛細式離子源濺鍍氧化鋅靶，沉積氧化鋅薄膜於晶向(100)矽基板上，隨後於氧與氮氣氛下退火，討論不同退火條件對氧化鋅薄膜特性之影響。 XRD顯示未退火之氧化鋅薄膜無任何繞射峰值，ZnO(002)繞…
    • 點閱：216  下載：6 

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    以反應式離子束濺鍍法製備掺鉺氧化鋅薄膜之特性分析與研究
    • 電子工程系 /99/ 博士
    • 研究生： 廖重期   指導教授： 趙良君
    • 本研究以雙離子槍反應式離子束濺鍍法沉積摻鉺氧化鋅薄膜，藉由控制靶材所照射的離子電流以控制濺擊產率而達到控制鉺摻雜濃度之目的。在本實驗中摻鉺的氧化鋅薄膜可以得到位於近紅外範圍之1.0 (4I11/2 …
    • 點閱：285  下載：0 
    • 全文公開日期 2013/07/11 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)

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    使用反應式離子束濺鍍法沉積製備掺氮氧化鋅薄膜
    • 電子工程系 /97/ 碩士
    • 研究生： 石喻任   指導教授： 趙良君
    • 以離子濺鍍法，在沈積氧化鋅薄膜同時，除了通入氬氣作為轟擊靶材之離子源，也直接加入氮氣，可將氮摻雜到氧化鋅薄膜，形成摻氮氧化鋅(ZnO:N)。以XRD分析成長溫度為300C之摻氮氧化鋅薄膜中只有氧化…
    • 點閱：215  下載：2 
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